针对高硅高铜压铸铝阳极氧化处理加工而设计，解决了高硅高铜压铸铝较难阳极氧化的难题；
通过调整加工工艺参数，可将高硅高铜压铸铝阳极氧化膜厚做到30um以上，最高可到50um以上；
通过调整工艺加工参数，可以将阳极氧化膜层的硬度（Hv）做到400～500；
可在10～20℃宽温度范围内进行阳极氧化处理；
氧化后的膜层坚硬，耐磨性优良；
具有优良耐盐雾腐蚀性能以及耐日晒牢度（耐UV性）；
若作适当后处理，膜层耐磨性进一步提高，摩擦系数大大降低，使用寿命更久；
有硫酸法和草酸法两种阳极氧化方法，工艺适用性广，氧化质量稳定；
自动化程度高，操作简单，质量稳定。
高硅压铸铝阳极氧化标准流程：
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